SWC-3000兆聲晶圓（掩模版）清洗機 返回列表頁

SWC-3000兆聲晶圓（掩模版）清洗機概述：

兆聲和清洗技術(shù)的發(fā)展，對MEMS和半導體等領(lǐng)域的晶圓和掩模版清洗提供了的水平，可以幫助用戶獲得z干凈的晶圓片和掩模版。

NANO-MASTER提供兆聲單晶圓&掩模清洗(SWC)系統(tǒng)，用于的無損兆聲清洗。可以適用于易受損的帶圖案或無圖案的基片，包含帶保護膜的掩模版。為了在確保不損傷基片的情況下達到*化的清洗效果，兆聲能量的密度必須保持在稍稍低于樣片上任意位置上的損傷閾值。NANO-MASTER的技術(shù)確保了聲波能量均勻分布到整個基片表面，通過分布能量的z大化支持z理想的清洗，同時保證在樣片的損傷閾值范圍內(nèi)。

SWC系統(tǒng)提供了可控的化學試劑滴膠能力，這使得顆粒從基片表面的去除能力得以進一步加強。SWC和LSC具備對點試劑滴膠系統(tǒng)，可以*節(jié)省化學試劑的用量的。滴膠系統(tǒng)支持可編程的化學試劑混合能力，提供了可控的化學試劑在整個基片上的分布。

SWC-3000兆聲晶圓（掩模版）清洗機應(yīng)用：

• 帶圖案或不帶圖案的掩模版和晶圓片
• Ge, GaAs以及InP晶圓片清洗
• CMP處理后的晶圓片清洗
• 晶圓框架上的切粒芯片清洗
• 等離子刻蝕或光刻膠剝離后的清洗
• 帶保護膜的分劃版清洗
• 掩模版空白部位或接觸部位清洗
• X射線及極紫外掩模版清洗
• 光學鏡頭清洗
• ITO涂覆的顯示面板清洗
• 兆聲輔助的剝離工藝

特點：

• 臺式系統(tǒng)
• 無損兆聲掩模版或晶圓片清洗及旋轉(zhuǎn)甩干
• 支持12”直徑的圓片或9”x9”方片
• 微處理機自動控制
• IR紅外燈

選配項：

• 掩模版或晶圓片夾具
• PVA軟毛刷清洗
• 化學試劑清洗(CDU)
• 氮氣離子發(fā)生器