自動化CVD系統：集成聯動，助力化學氣相沉積研究
一、系統概述
本系統為一款集成化CVD設備，熱處理溫度可達1200℃（連續使用溫度1100℃），適用于多種材料的沉積工藝研究。系統主要特點包括：
ü 三通道供氣：支持多種氣體組合（如需通入易燃易爆或腐蝕性氣體，請提前溝通確認）
ü 高真空度：極限真空度可達5×10?2 Pa（不帶負載）
ü 自動化控制：觸摸屏操作，實現熱處理、混氣、真空模塊聯動
二、 系統組成與技術參數
1. 熱處理系統
名稱 | 主要參數 |
|---|---|
電源 | 220V 50/60Hz |
額定功率 | 1.6kW |
工作溫度 | 1200℃（＜0.5h） |
連續工作溫度 | 1100℃ |
推薦升溫速率 | ≤10℃/min |
加熱區長度 | 300mm |
熱電偶 | K型 |
加熱元件 | 鐵鉻鋁合金絲0Cr21Al6Nb |
爐體結構 | • 高溫立式爐，雙層殼體帶風冷系統 • 爐膛采用高純氧化鋁纖維，內部涂覆高純氧化鋁涂層 • 內置氧濃度分析探測儀，排查易燃易爆氣體安全隱患 |
爐管 | 高純石英管，尺寸：φ100×700mm |
法蘭系統 | • 上端法蘭：三個φ6.35mm進氣口 • 底座法蘭：電動升降機構、KF25真空接口（帶手動真空擋板閥）、KF16數顯真空計接口、水冷循環系統接口 • 底座可固定載物臺，用于放置樣品
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2. 溫控系統
l 控制方式：7英寸觸控智能微電腦PID溫控儀表，聯動控制集成
l 控制技術：SSR控制，PID參數自整定，超溫報警
l 編程功能：可編程15組30個程序段，支持自動升溫、保溫和停止
l 控制精度：±1℃
3. 三通道混氣系統
l 電源：AC208-240V 50/60Hz
l 流量范圍：0-500 SCCM（以氬氣、甲烷、二氧化碳為標定氣體）（可選量程和氣體標定）
l 控制精度：±1.5% FS
l 混氣模式：支持氬氣與甲烷、氬氣與二氧化碳進入混氣罐，兩組氣體可切換使用
4. 真空系統
l 真空泵型號：VRD-8 （可選配）
l 抽速：2L/S
l 電源：AC220V 50/60Hz
l 極限真空度：5×10?2 Pa（不帶負載）
l 自動控制：可增配自動控制電氣配件
5. 認證標準與核心零部件
認證標準：符合CE、UL等認證要求核心零部件品牌：ABB、歐米茄、東明等
三、售后服務
① 質保期：一年（耗材除外）
② 維護服務：終身維護，24小時在線技術支持
特別提示：加熱元件、爐管、坩堝等耗材不在質保范圍內；因使用腐蝕性氣體造成的損害不予保修
四、使用注意事項
為確保設備安全穩定運行，請嚴格遵守以下要求：
? 氣壓限制：采用石英爐管時，爐管內氣壓不得高于0.02MPa
? 氣瓶配置：必須安裝減壓閥，建議選用量程為0.01-0.1MPa的減壓閥，以保證氣體通入精確性與安全性
? 加熱操作：如需關閉氣閥加熱，必須實時觀察壓力表示數，若超過0.02MPa需立即打開泄氣閥
? 流量控制：氣體流量建議控制在≤200 SCCM（即200ml/min）以內
五、適用場景
自動化控制CVD系統適用于：
l 高校、科研院所的材料科學研究
l 企業實驗室的薄膜制備與納米結構生長實驗
l 需要高真空度和多氣體組合的化學氣相沉積工藝
l 其集成化設計與自動化控制功能，有助于提升實驗效率與數據重復性，是現代材料研究實驗室的理想選擇。
如您對本系統感興趣，歡迎通過微信公眾號留言或聯系相關技術人員獲取更多信息與技術支持。
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