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        首頁   >>   技術文章   >>   無掩膜光刻機采購參考:合肥重光產品定制化服務與技術指標說明

        合肥重光電子科技有限公司

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        無掩膜光刻機采購參考:合肥重光產品定制化服務與技術指標說明

        閱讀:77      發布時間:2026-6-15
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          一、 產品定位與核心功能

          合肥重光電子科技有限公司推出的CG-MLC6系列直寫光刻機(無掩膜光刻機)是一款面向高校、實驗室及研究機構的設備。

          核心技術:采用數字光刻技術,免除掩模版制作環節,將版圖信息直接轉移到涂有光刻膠的襯底上。

          主要應用:

          各類MEMS器件制作(如麥克風、壓力傳感器、加速度計、陀螺儀、超聲波傳感器、壓電傳感器)。

          掩模板制作。

          微納器件無掩模版直寫光刻。

          3D結構曝光(支持128階灰度曝光)。

          特色功能:具備自動對準、用戶自定義標記對準、可視化定點曝光、自動聚焦、不規則樣片曝光、背部對準(選配)等功能。支持快速與精細兩種曝光模式,以及GDSⅡ、Gerber、O DB++等多種數據格式。

          二、 關鍵技術參數對比(CG-MLC6系列子型號)

          該系列設備提供三個子型號(Mode Ⅰ、Mode Ⅱ、Mode Ⅲ),主要差異體現在精度與產能上,便于用戶根據自身工藝側重點選擇。

          最小特征尺寸

          Mode Ⅰ:0.5 μm

          Mode Ⅱ:1 μm

          Mode Ⅲ:2 μm

          最小線寬線距

          Mode Ⅰ:0.8 μm

          Mode Ⅱ:1.2 μm

          Mode Ⅲ:2.5 μm

          CD均勻性:三個子型號均為10%。

          兩層對位精度(5x5 mm²區域)

          Mode Ⅰ:500 nm

          Mode Ⅱ:800 nm

          Mode Ⅲ:1000 nm

          兩層對位精度(50x50 mm²區域)

          Mode Ⅰ:800 nm

          Mode Ⅱ:1000 nm

          Mode Ⅲ:1500 nm

          產能

          Mode Ⅰ:50 mm²/min

          Mode Ⅱ:100 mm²/min

          Mode Ⅲ:300 mm²/min

          共性參數:

          曝光光源:Laser, 405nm (375nm可選)。

          曝光面積:150mm x 150mm。

          基板尺寸范圍:最小5mm x 5mm,厚度0.1 - 12mm(可選)。

          三、 公司背景與服務模式

          了解設備廠家的技術支持和商業模式,有助于評估長期合作可行性。

          公司性質:合肥重光電子科技有限公司定位為儀器設備的生產商,業務聚焦于太陽能電池和半導體等領域。

          技術合作:公司與中國科學技術大學微納加工平臺、合肥工業大學微納加工平臺保持技術交流,能夠協助客戶解決工藝問題。

          特色服務:

          定制化代工:提供自營品牌的代工業務,支持客戶實現資產輕量化運營。

          定制化研發:滿足客戶多樣化需求,提供定制化服務。例如,其低速勻膠設備可處理低粘度光阻的勻膠工藝,改變以往依賴特定進口品牌的情況。

          四、 綜合對比小結

          基于現有資料,對合肥重光CG-MLC6系列無掩膜光刻機進行特性歸納:

          適用場景明確:專為科研和小批量、多品種的實驗室環境設計。其體積小、功能靈活、性價比較高的特點,適合高校及研究機構用于MEMS、傳感器、掩模版等領域的研發。

          技術參數階梯化:通過三個子型號(Mode Ⅰ/Ⅱ/Ⅲ)覆蓋從亞微米(0.5μm特征尺寸)到微米級(2μm特征尺寸)的加工需求。用戶可根據對精度(對位精度、線寬)和產能(曝光速度)的具體要求選擇對應配置。

          特色工藝能力:支持128階灰度曝光和3D結構制作,為微透鏡、微棱鏡等非平面結構加工提供了工具。同時具備背部對準、不規則樣片曝光等實用功能。

          服務與支持側重:公司提供從設備定制、代工生產到工藝咨詢的服務鏈條。與本地高校微納加工平臺的技術交流網絡,或能為客戶在工藝開發階段提供實際協助。

          選擇參考:在選擇無掩膜光刻機時,可重點比較最小特征尺寸、對位精度、曝光面積和灰度曝光能力是否滿足當前及未來2-3年的實驗需求。合肥重光的產品線提供了從0.5μm到2μm特征尺寸的三個精度等級,并保留了375nm光源選配、背部對準等擴展選項。

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