日本Osaka Vacuum大阪真空 基礎TG 系列

日本Osaka Vacuum大阪真空  基礎TG 系列
日本Osaka Vacuum大阪真空  基礎TG 系列

一、系列定位與型號

• 全稱：Oil?lubricated Ball Bearing Turbo Molecular Pump（油潤滑滾珠軸承渦輪分子泵）。

• 定位：經濟型高真空主力，適配一般工業、科研、腐蝕性氣體場景，成本低于磁懸浮 TG?M/TGkine。

• 主流型號：

• 小抽速：TG203 / TG303 / TG403（200–400 L/s）

• 中抽速：TG600 / TG800 / TG1300 / TG1813（600–1800 L/s）

• 大抽速：TG2810 / TG3300 / TG5500（2800–5500 L/s）。

• 衍生型號：TG?C（耐化學腐蝕型），適配刻蝕、沉積等含氟 / 氯腐蝕性氣體制程。

二、核心特點

1. 油潤滑滾珠軸承：結構簡單、成本低、抗沖擊強；設計壽命約3–5 萬小時，定期換油維護。

2. 寬抽速 + 高壓縮比：抽速 200–5500 L/s（N?），極限真空 **<1×10?? Pa**，N?壓縮比1×10?，適配輕氣體（H?/He）排氣。

3. 任意安裝姿態：可垂直、水平、倒置，適配復雜腔體與移動設備。

4. 強耐受性：耐大氣沖擊，意外破真空不易損壞；抗振動，適合工業生產線。

5. 智能控制 + 工業合規：標配RS232C，控制器 TC 系列；符合CE/NRTL/SEMI?S2。

三、關鍵技術參數（代表型號）

四、與 TG?F/TG?M 系列核心區別

五、典型應用

• 半導體：非潔凈制程、電子槍排氣、離子源、晶圓處理（非 UHV）。

• 工業真空：光學鍍膜、真空熱處理、冷凍干燥、檢漏設備。

• 科研：普通分析儀器、電子顯微鏡（非超高真空）、真空腔體排氣。

• 腐蝕氣體：刻蝕、沉積、CVD/PVD 制程（選 TG?C 耐腐型）。