SI 500D等離子沉積系統是ICP-PECVD設備，利用ICP高密度等離子源來沉積電介質薄膜。可在極低溫度下（ 100oC）沉積高質量SiO2, Si3N4,...

QAM 系列鍍膜設備是一種用于研究開發的精密濺射鍍膜機，可用于各種基板上的包括磁性材料薄膜、超晶格薄膜的濺射鍍膜制程

PICOSUN原子層沉積系統ALD R-300高級版；Picosun 300mm生產線上的產品是300mm以下晶圓的自動化、高產量的工業ALD加工設備。

PICOSUN 原子層沉積系統ALD R-200 Pro；PICOSUN R-200 Advanced ALD系統適用于數十種應用的研發，例如IC組件，MEMS...

PICOSUN原子層沉積系統ALD R-200高級版；系統適用于數十種應用的研發，例如IC組件，MEMS器件，顯示器，LED，激光和3D對象，例如透鏡，光學器件...

PICOSUN?R-200標準ALD系統適用于數十種應用的研發，例如IC組件，MEMS器件，顯示器，LED，激光和3D對象，例如透鏡，光學器件，珠寶，硬幣和醫療...

SEMILAB-SE2000 全光譜橢偏測試平臺基于橢圓偏振測試技術，采用良好的旋轉補償器，結合光纖專li技術將偏振光信號傳輸至分段光譜優化的高分辨率單色儀或陣...

SEMILAB-全光譜橢偏儀GES5E 基于橢圓偏振測試技術，采用良好的旋轉補償器，結合光纖技術將偏振光信號傳輸至分段光譜優化的高分辨率單色儀或陣列式多通道攝譜...

離子注入機由離子源、質量分析器、加速器、四級透鏡、掃描系統和靶室組成，可以根據實際需要省去次要部位。離子源是離子注入機的主要部位，作用是把需要注入的元素氣態粒子...

丹頓真空的Discovery系列在世界許多有名的研究機構得到廣泛的應用，是業內*的靈活、可靠的磁控濺射系統。從15年前開發以來，該系統已經銷售超過100臺，在國...

目前，丹頓真空已為客戶設計制造了總數超過5千臺的各種規格的電阻/電子束蒸發、磁控濺射、離子束濺射/刻蝕和等離子體化學氣相沉積鍍膜系統，產品廣泛應用于科研開發、小...

SI 500D等離子沉積系統是ICP-PECVD設備，利用ICP高密度等離子源來沉積電介質薄膜。可在極低溫度下（ 100oC）沉積高質量SiO2, Si3N4,...