HMDS增粘勻膠機(jī) 參考價(jià)：1
HMDS增粘勻膠機(jī)應(yīng)用于在勻膠前的硅片等基片表面均勻涂布一層HMDS（六甲基二硅氮烷）。作用：降低HMDS處理后的硅片接觸角，進(jìn)而降低勻膠時(shí)光刻膠在硅片表面鋪展...
掩膜板涂膠機(jī) 參考價(jià)：面議
掩膜板涂膠機(jī)設(shè)備簡介：桌上型旋轉(zhuǎn)涂布機(jī)，用于對均勻性要求較高的表面涂布工藝，將光刻膠溶液手動(dòng)涂覆在硅片、磷化銦、碳化硅、氮化鎵、鈮酸鋰等基片上形成薄膜，主要應(yīng)用...
桌上型手動(dòng)旋轉(zhuǎn)涂布機(jī) 參考價(jià)：面議
勻膠機(jī)設(shè)備簡介：桌上型旋轉(zhuǎn)涂布機(jī)，用于對均勻性要求較高的表面涂布工藝，將光刻膠溶液手動(dòng)涂覆在硅片、磷化銦、碳化硅、氮化鎵、鈮酸鋰等基片上形成薄膜，主要應(yīng)用于12...
自動(dòng)滴膠勻膠機(jī) 參考價(jià)：面議
自動(dòng)滴膠勻膠機(jī)，MSC-200T-D桌上型半自動(dòng)旋轉(zhuǎn)涂布機(jī)用于對均勻性和一致性要求較高的表面涂布工藝，將光刻膠溶液自動(dòng)涂覆在硅片、磷化銦、碳化硅、氮化鎵、鈮酸鋰...
桌上型自動(dòng)顯影機(jī) 參考價(jià)：面議
桌上型自動(dòng)顯影機(jī)MSD-200D主要應(yīng)用于曝光后的顯影工藝。該設(shè)備主要由顯影腔單元、自動(dòng)擺臂單元、以及供液系統(tǒng)、主軸系統(tǒng)、控制系統(tǒng)及排液系統(tǒng)等組成，整機(jī)采用框架...
全柜式涂膠顯影一體機(jī) 參考價(jià)：面議
概述： SHD8-SE涂膠顯影系統(tǒng)一體機(jī)主要由勻膠單元、烤膠單元、顯影單元等部分組成，該設(shè)備針對高校研究所實(shí)驗(yàn)室，特點(diǎn)是占地面積小，性價(jià)價(jià)比更高。整機(jī)采用框架結(jié)...
光阻成像儀 參考價(jià)：面議
光阻成像儀/桌上型自動(dòng)顯影機(jī)MSD-200D主要應(yīng)用于曝光后的顯影工藝。該設(shè)備主要由顯影腔單元、自動(dòng)擺臂單元、以及供液系統(tǒng)、主軸系統(tǒng)、控制系統(tǒng)及排液系統(tǒng)等組成，...
桌上型旋轉(zhuǎn)涂布機(jī) 參考價(jià)：面議
桌上型旋轉(zhuǎn)涂布機(jī)應(yīng)用：在高速旋轉(zhuǎn)的基片上，滴注各類膠液，利用離心力使滴在基片上的膠液均勻地涂覆在基片上，厚度視不同膠液和基片間的粘滯系數(shù)而不同，也和旋轉(zhuǎn)速度及時(shí)...
桌上型旋轉(zhuǎn)涂布機(jī) 參考價(jià)：面議
設(shè)備簡介：桌上型旋轉(zhuǎn)涂布機(jī)，用于對均勻性要求較高的表面涂布工藝，將光刻膠溶液手動(dòng)涂覆在硅片、磷化銦、碳化硅、氮化鎵、鈮酸鋰等基片上形成薄膜，主要應(yīng)用于12寸以內(nèi)...(空格分隔,最多3個(gè),單個(gè)標(biāo)簽最多10個(gè)字符)
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